Q. 포토 공정 질문

답변 1

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  프로답변러YTN

  코부사장 ∙ 채택률 86%

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  채택된 답변

  멘티님, 포토 공정에서 마스크 간 참조 관계와 정렬·순서는 공정 레시피와 장비 세팅 단계에서 레이어별로 정의해서 스캐너에 입력·관리하고, 실제 노광 시에는 장비가 웨이퍼 상의 얼라인먼트 마크·오버레이 마크를 자동 인식해 이전 레이어 대비 위치를 맞추는 구조라고 보면 됩니다. 각 레이어용 마스크에는 정렬용 키가 있고, 웨이퍼의 스크라이브 라인에 형성된 전 레이어 키와 현재 마스크 키를 스캐너의 센서가 읽어서 X·Y·회전·배율 오차를 계산·보정하며, 레시피 상에서 “이 레이어는 어떤 기준 마크를 어떤 방식(EGA 등)으로 잡을지”를 미리 설정해 두기 때문에 사람이 매번 수동으로 맞춘다기보단 초기 조건만 잘 넣어 두면 장비가 반복적으로 정렬해 줍니다. 정리하면, 마스크 간 정렬·순서는 프로세스·디자인 단계에서 레이어 스택과 오버레이 기준을 정의해 장비 레시피로 넘기고, 현장에서 실제 정렬은 스캐너가 웨이퍼의 다수 얼라인 마크를 자동 측정해 오버레이를 맞추는 방식이라고 이해하시면 됩니다, 채택부탁드리며 파이팅입니다!

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